Technologia sit molekularnych jest typowo stosowana do procesów separacyjnych, w których wymagana jest wysoka selektywność usuwania określonych składników. Sita molekularne mogą być stosowane m.in. do osuszania gazów i cieczy (osuszanie rozpuszczalników) w przemyśle chemicznym, usuwanie związków siarki (H2S, COS i merkaptanów), oczyszczanie wodoru w procesach PSA (usuwanie z gazu syntezowego CO, CO2, CH4, N2), oczyszczanie powietrza w kriogenicznych instalacjach separacji powietrza, osuszania powietrza sprężonego i wielu innych.
Sito molekularne 3A
Odwanianie strumieni nienasyconych węglowodorów, w tym gazu z krakingu termicznego ropy naftowej, propylenu, acetylenu i innych; suszenie cieczy o właściwościach polarnych (metanol, etanol); separacja NH3 i wody z przepływu azotu/wodoru; uniwersalny środek osuszający w mediach polarnych i niepolarnych
Sito molekularne 4A
Wykorzystywany głównie do odwadniania statycznego i dynamicznego gazów i cieczy. Pozwala na selektywne usuwanie związków takich jak H2O, SO2, CO2, H2S, C2H4, C3H6. Jest powszechnie uważany za uniwersalny materiał osuszający. Stosowany również do rozdzielania gazu ziemnego i alkenów.
Sito molekularne 5A
Osuszanie i oczyszczanie gazów i powietrza. Szeroko stosowany do odwadniania i odsiarczania gazu ziemnego i LNG. Stosowany w technologiach separacji wodoru (SMR, WGS, zgazowanie węgla) w instalacjach PSA, VPSA. Wykorzystywany również w instalacjach do produkcji tlenu.
Sito molekularne 13X
Szeroko stosowany w technologiach osuszania gazów procesowych i osuszaniu sprężonego powietrza. Wykorzystywany do osuszania, odsiarczania i oczyszczania gazów w przemyśle petrochemicznym oraz gazu ziemnego w innych zastosowaniach. Używany do oczyszczania powietrza (usuwanie wody i CO2) w kriogenicznych instalacjach separacji powietrza.